Техно
Ради экономии TSMC готова пойти на уменьшение количества слоёв с EUV в рамках 3-нм литографии
1
Представители TSMC не раз подчёркивали, что массовое производство 3-нм продукции будет развёрнуто во второй половине текущего года, и подготовка идёт по плану.